純水設(shè)備制造的水是純度*的水。集成電路工業(yè)中用于半導(dǎo)體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。

   超純水：既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值。

　　
    超純水,是一般工藝很難達(dá)到的程度，采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級(jí)處理四大步驟，多級(jí)過(guò)濾、高性能離子交換單元、超濾過(guò)濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達(dá)18.25MΩ*cm

　　
    純水設(shè)備是美國(guó)科技界為了研制超純材料（半導(dǎo)體原件材料、納米精細(xì)陶瓷材料等）應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當(dāng)?shù)某R界精細(xì)技術(shù)的制水設(shè)備，這種水中除了水分子（H20）外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細(xì)菌、病毒、含氯二惡英等有機(jī)物，當(dāng)然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素，一般不可直接飲用，對(duì)身體有害，會(huì)析出人體中很多離子。

系統(tǒng)四周應(yīng)留有足夠空間用以連接水管、電源和更換耗材。
機(jī)器請(qǐng)安裝在靠近水源、電源和水槽的位置。
水源要求
以自來(lái)水為水源的系統(tǒng)，要求進(jìn)水壓力要符合設(shè)備要求，進(jìn)水管徑不得小于規(guī)定尺寸。
(如果壓力較低將導(dǎo)致系統(tǒng)不能正常運(yùn)轉(zhuǎn)。如果壓力較高將可能導(dǎo)致系統(tǒng)漏水。)
需考慮進(jìn)水的硬度，如硬度較高，需首先對(duì)進(jìn)水進(jìn)行軟化處理。
以純化水為水源的系統(tǒng)，要求進(jìn)水的TDS值需小于20PPM。